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BC電池工藝技術學習——可與多種技術(TOPCon,HJT)結合(TBC,HBC)

2024-03-20 16:43瀏覽數:924 

摘要:

1、BC不是一種全新的(de)電池技術。Back Contact,金屬電極均以叉指(zhi)狀排列在電池(chi)背面(mian),為(wei)正面(mian)創造更多的吸光(guang)面(mian)積(ji),提高電池(chi)片的整體光(guang)電轉換效率。


2、BC不(bu)是一種孤(gu)立的電池技術。TBC=TOPCon(隧穿(chuan)氧化硅/摻雜(za)多晶硅)+BC(全背面接觸);HBC=HJT(非/微晶硅(gui))+BC(全背面接觸),TBC/HBC的競(jing)爭實(shi)質上是TOPCon和(he)HJT的進一(yi)步差異化(hua)競(jing)爭。


3、BC技術(shu)壁壘高,并非擁有TOPCon/HJT儲備即可隨時(shi)轉產BC電池。①BC電(dian)(dian)池的(de)生產工(gong)(gong)序較(jiao)長,尤以背電(dian)(dian)極(ji)制作較(jiao)為繁(fan)瑣,需(xu)要(yao)經歷2~3道激光開(kai)槽工(gong)(gong)藝(yi),對(dui)設備穩定性/工(gong)(gong)藝(yi)成熟水(shui)平(ping)要(yao)求較(jiao)高,而激光開(kai)槽過程中(zhong)造成的(de)漏(lou)電(dian)(dian)問題(ti)是制約電(dian)(dian)池片(pian)生產良率的(de)重要(yao)瓶(ping)頸(jing);②由于背電(dian)(dian)極(ji)相互交叉,在(zai)焊(han)帶(dai)設計/焊(han)接工(gong)(gong)藝(yi)和(he)封裝工(gong)(gong)藝(yi)也(ye)需(xu)要(yao)做相應(ying)調整。焊(han)帶(dai)方面(mian),扁平(ping)化、變薄變寬趨(qu)勢;膠(jiao)膜(mo)方面(mian),主流方案(an)EPE+POE,膠(jiao)膜(mo)厚度可隨(sui)焊(han)帶(dai)超薄而下(xia)降;串焊機方面,焊接(jie)精(jing)度要求大幅提高(gao),需要BC專用(yong)串焊機。


4、BC技術高度(du)適配電鍍(du)銅。當前(qian)金屬化方案中,電鍍銅、銀漿各具(ju)優勢,長期看,對(dui)于工(gong)藝復(fu)雜,人力、設備(bei)、材料成(cheng)本高昂的BC電池而(er)言,電鍍銅在成(cheng)本、工(gong)藝匹配上(shang)表現(xian)出(chu)巨大潛力。

         

結(jie)構

BC基(ji)礎結構:

從(cong)上至下:SiNx/SiO2   - n+ Si(摻磷(lin)(lin))- Si基底 - p+(硼擴)/n++(磷(lin)(lin)擴) Si   -   SiO2/SiNx - 金屬電極(叉指)

n+ Si(摻磷):利用(yong)場鈍化效應降(jiang)低表面(mian)少(shao)子濃度,從而(er)降(jiang)低表面(mian)復合速率,同時還可以降(jiang)低串(chuan)聯電(dian)(dian)阻,提升(sheng)電(dian)(dian)子傳輸能(neng)力(li)。

p+ Si(硼擴):發射(she)極能夠與N型硅基底形成p-n結,有(you)效分流載流子。

n++ Si(磷擴):與n型硅形成高(gao)低結,增強載流子的分(fen)離(li)能力,是IBC電池(chi)的核心技術。

SiO2/SiNx:背面,抑制IBC太陽電池的載流子復(fu)合(he);正面,減反層提(ti)高(gao)發電效(xiao)率(lv)。

圖(tu):IBC電池(chi)結構

         圖片

來(lai)源:《叉(cha)指背接觸硅太陽能電(dian)池》,國金(jin)證券研(yan)究所

圖:叉指電極(ji)

圖片

來(lai)源:DS New Energy官網

         

HBC結(jie)構(HJT/BC):

從上至下:減反層   -   本征非(fei)(fei)晶(jing)硅   -   Si基底(di) -   本征非(fei)(fei)晶(jing)硅 - n/p型非(fei)(fei)晶(jing)硅 - TCO - 金屬電極

圖(tu):HBC電池結構

圖片

來源(yuan):摩爾光伏

         

TBC結構(TOPCon/BC):

從(cong)上至下:減反層(ceng) - 鈍(dun)化(hua)層(ceng) - AlOx - n+ Si(摻磷)- Si基底 - 隧穿(chuan)氧化(hua)層(ceng) - p+/n++摻雜多晶硅(gui) - 鈍(dun)化(hua)層(ceng) - 減反層(ceng) - 金屬電極(ji)

圖:TBC電池(chi)結構(gou)

圖片

來源:光伏測試網

         

工(gong)藝

表(biao):各BC技術(shu)工藝流(liu)程


                 

IBC

                 

TBC

                 

HBC

                 

1

                 

清洗制絨

                 

清洗制絨

                 

清洗制絨(rong)

                 

2

                 

磷擴(kuo)散

                 

隧穿氧化層 + n型非晶硅

                 

本(ben)征氫(qing)化非晶硅(正面)

                 

3

                 

鍍掩膜

                 

掩膜

                 

減反射膜(正面)

                 

4

                 

激(ji)光(guang)開槽(cao)

                 

激光開槽

                 

本征氫化非晶(jing)硅(背面)

                 

5

                 

刻蝕(shi)

                 

硼摻雜非晶(jing)硅(p+)

                 

硼摻雜非晶硅(背(bei)面) p+

                 

6

                 

清洗掩膜

                 

刻蝕(shi)

                 

掩膜

                 

7

                 

雙面減(jian)反+鈍化

                 

雙(shuang)面(mian)減反+鈍化

                 

激(ji)光開(kai)槽

                 

8

                 

激光開槽(類PERC)

                 

激光開槽(P/N分隔)

                 

刻(ke)蝕

                 

9

                 

金屬化

                 

金屬化

                 

磷摻(chan)雜非晶硅(背面)n++

                 

10



                 

透(tou)明導電(dian)膜(背面(mian))

                 

11



                 

激光開槽(PN隔離)

                 

12



                 

金屬化

來源:全球光(guang)伏

         

難點:N/P區圖形化

目(mu)的:在(zai)電(dian)池背面建立(li)獨立(li)的電(dian)子/空(kong)穴傳(chuan)輸通(tong)道(dao)

工藝:激光(guang)開(kai)槽。激光(guang)1、激光(guang)2做圖形化,激光(guang)3用于金屬化前的(de)SiNx開(kai)孔。

要求:激光能(neng)量均勻


圖(tu)(tu):隆(long)基HPBC全激光(guang)流程圖(tu)(tu)

圖片

來源:全(quan)球光(guang)伏

         

表(biao):各BC技(ji)術(shu)效率、投資額(e)


                 

IBC

                 

TBC

                 

HBC

                 

單(dan)GW設備投資(億元)

                 

3

                 

3

                 

5

                 

量產平(ping)均效率

                 

23.5-24.5%

                 

24.5-25.5%

                 

25-26.5%

                 

實(shi)驗室最高效率(lv)

                 

25.5%(Sunpower)

                 

26.1%(Fraunhofer)

                 

26.63%(Kaneka)

                 

銀(yin)漿耗量(mg/片)

                 

低于雙(shuang)面PERC

                 

低于雙面(mian)TOPCon

                 

低于HJT

                 

薄片化(um)

                 

130-150

                 

130-150

                 

140

                 

主要(yao)企業

                 

隆基、愛旭、Sunpower等

                 

工序步驟

                 

大于12步(bu),難度高

                 

工藝難點

                 

PN結(jie)形(xing)成、背(bei)面(mian)金屬化、表面(mian)鈍化技術

                 

硅(gui)襯底

                 

P or N

                 

P or N

                 

N

                 

兼容性

                 

兼(jian)容部(bu)分PERC

                 

兼容TOPCon

                 

兼容HJT

                 

增加(jia)設備

                 

增加掩膜沉積設備、激(ji)光消融設備

                 

串焊機(ji)

                 

需更換

                 

2022/2023年有效產能預估(GW)

                 

2/2.95

                 

3.3/6.8

                 

1.4/2.4

來源:東方日升

         

雙面率問(wen)題:BC電(dian)(dian)(dian)(dian)池由于電(dian)(dian)(dian)(dian)極都在(zai)(zai)背面(mian)(mian),犧(xi)牲了一(yi)定的(de)(de)雙面(mian)(mian)率,但正面(mian)(mian)遮光面(mian)(mian)積增(zeng)加3-4%帶(dai)來的(de)(de)效率增(zeng)益足以抵消背面(mian)(mian)效率降低帶(dai)來的(de)(de)影響(xiang)。從應用場(chang)景角度看,BC電(dian)(dian)(dian)(dian)池的(de)(de)單面(mian)(mian)特性及其(qi)適用于屋頂光伏(fu),發(fa)電(dian)(dian)(dian)(dian)量可比TOPCon高2-3%(河(he)南/河(he)北光照條件下,來源:隆基中期業績交流會)。BC電(dian)(dian)(dian)(dian)池的(de)(de)雙面(mian)(mian)率仍有提升(sheng)空間(jian),當前(qian)BC電(dian)(dian)(dian)(dian)池主攻單面(mian)(mian)市場(chang),在(zai)(zai)雙面(mian)(mian)性能表(biao)現出(chu)明(ming)顯優(you)勢之(zhi)前(qian),暫不(bu)會參與雙面(mian)(mian)市場(chang)競爭。

         

封裝

IBC電(dian)極均在背面,無(wu)法用(yong)一根(gen)焊(han)帶(dai)直線互聯。IBC 組件的(de)焊(han)接工藝需要特殊的(de)互聯焊(han)帶(dai)進行連接。


互聯工藝的難點(dian)是絕緣問(wen)題:1、電池片(pian)本身做絕緣處理(li),但這種方法(fa)成(cheng)本較高;


2、利用(yong)絕(jue)緣膠膜在背接觸電(dian)池片焊(han)接前進行絕(jue)緣處理,但會影響組件生(sheng)產效率。

目前行(xing)業內(nei)提出的2個方案:


1、導電膠(jiao)+柔(rou)性電路背(bei)板。

基于全新的(de)金(jin)屬箔(bo)電路設計,每片電池片通(tong)過柔性的(de)導電膠(jiao)和金(jin)屬箔(bo)電路互聯從而自(zi)動(dong)形成完整的(de)回路。

組(zu)件封(feng)裝(zhuang)結(jie)構(gou):鋼化玻璃(li) - EVA - 電(dian)(dian)池片(pian) - 絕(jue)緣層 - 導電(dian)(dian)背(bei)板 - EVA - 背(bei)板。


來源:日托光伏(fu),國(guo)金證券研究所

圖片

來(lai)源:索比咨詢

         

2、涂(tu)錫銅帶焊接(jie)和普通背板(ban)。

a、使用(yong)特殊形狀焊(han)帶(dai)(根據背面結(jie)構定(ding)制(zhi)化設計),材(cai)料成本(ben)低(di),實(shi)現較簡單。

b、IBC電池串(chuan)焊(han)連接(jie)時,通常將(jiang)完(wan)整的一整根(gen)焊(han)帶裁(cai)切截斷后,連接(jie)相鄰兩(liang)個(ge)電池片(pian)的正極和(he)(he)負極。因而,傳統(tong)的焊(han)帶用于(yu)IBC電池串(chuan)焊(han)時,存在多次(ci)的拖(tuo)拽、拉伸和(he)(he)截斷操作,降低生(sheng)產(chan)效率和(he)(he)產(chan)品良率。

b、焊接(jie)(jie)原理發生了變(bian)化,從雙面(mian)焊接(jie)(jie)變(bian)成單面(mian)焊接(jie)(jie),單面(mian)焊接(jie)(jie)時,硅片易受熱彎曲,增(zeng)加(jia)工藝難度。需要全新BC電池專(zhuan)用串焊機。

         

隆基焊帶(dai)方案:將具有導電(dian)段(duan)和(he)絕緣(yuan)段(duan)間隔(ge)交替分(fen)布的焊(han)帶(dai)用(yong)于IBC電(dian)池(chi)(chi)片的串焊(han)中(zhong),同一(yi)條焊(han)帶(dai)的導電(dian)段(duan)同時焊(han)接相(xiang)鄰(lin)兩(liang)個(ge)IBC電(dian)池(chi)(chi)片中(zhong),一(yi)個(ge)電(dian)池(chi)(chi)片的正極區(qu)域、另一(yi)個(ge)電(dian)池(chi)(chi)片的負極區(qu)域。

焊(han)帶形狀:圓(yuan)形、矩形、三角(jiao)形。

圖(tu):隆基焊(han)帶(dai)專(zhuan)利示意圖(tu)

圖片

來源:隆基專利CN219610448U

         

膠膜:原則(ze)上EVA、POE、EPE都可用。IBC組件正面(mian)(mian)無金屬柵線,外(wai)觀要求更高(gao);背面(mian)(mian)線路焊接,耐腐蝕性(xing)要求高(gao)。Maxeon 的(de)IBC組件采用的(de)是純(chun)POE膠膜的(de)封(feng)裝路線(xian)。

*封裝(zhuang)IBC電池時,無需考慮焊(han)帶對(dui)電池正(zheng)面膠膜(mo)厚(hou)度的影響,POE膠膜(mo)雖然價格(ge)昂(ang)貴,但工藝上(shang)允許可以適度降低正(zheng)面膠膜(mo)克重,利于組件降本。

         

金屬化

BC電池的重大區別在于:背面制備出呈(cheng)叉指狀間隔排列的P區(qu)和N區(qu),以及在(zai)其上(shang)面分別形成金(jin)屬化接觸和柵線(xian)。

因此(ci)金屬化的要(yao)求(qiu):

1、減反層開(kai)孔面(mian)積小(xiao)。背面(mian)金屬接(jie)觸(chu)比(bi)例越(yue)小(xiao),復合電流就(jiu)越(yue)小(xiao),開(kai)路電壓提高。

2、N和P的接觸孔區(qu)需要與各自的擴散區(qu)對準,否(fou)則(ze)會(hui)造成電池(chi)漏(lou)電失效。

圖(tu):SiNx開孔

圖片

來源:《叉指背接觸硅太陽(yang)能電(dian)池》

         

銀漿在BC電池中的局(ju)限:

1、BC電池柵線(xian)均在背面(mian),對光照遮(zhe)擋要求(qiu)低(di),且(qie)考慮到電極面(mian)積(ji)越大(da)更利于電流輸出,一般柵線(xian)較(jiao)高。這種(zhong)情況下,銀(yin)漿耗(hao)量大(da)、成(cheng)本(ben)高,且(qie)目(mu)前沒有降本(ben)路線(xian)。

2、BC電池背面(mian)n區/p區面(mian)積大(da)小不同且間(jian)隔(ge)排列(lie),不同區域(yu)對(dui)應(ying)柵線寬(kuan)度也不同,使用絲網印刷銀漿(jiang)的(de)方(fang)案,在(zai)網版設計上要做出重大(da)調整。

3、BC電池電極均在(zai)同一面,意味(wei)著(zhu)電子/空穴(xue)分離(li)后將(jiang)向同一方向運動、輸出,相(xiang)比其(qi)他(ta)結(jie)構(gou)電池,同一方向運動難免存(cun)在(zai)更(geng)嚴重復合問題,也就對(dui)金(jin)屬端的(de)導(dao)電能(neng)力提(ti)出了更(geng)高要求(qiu)。銀漿并非純銀材料,大(da)量的(de)有機物、添(tian)加劑等(deng)使其(qi)導(dao)電能(neng)力不如純銅。

4、銀鋁漿存在高度(du)差,增加焊(han)接難(nan)度(du)。

         

銅電鍍更為適配(pei):

1、BC電池背面叉指(zhi)狀的P區和(he)N區在制作過程需要多次的掩膜和(he)光刻技術,且之間(jian)的gap區域需非常精(jing)準,與(yu)銅電鍍精細(xi)的掩(yan)膜光刻工藝適配,可以同(tong)時(shi)降(jiang)低金屬化環節的設備(bei)投資成(cheng)本。

2、光(guang)刻(ke)工藝(yi)下,銅柵線線寬(kuan)靈活可調且更加精細,易找到電流輸出與接(jie)觸面積(ji)的最佳平(ping)衡點。

3、銅價格低(di)廉,銅柵線材料成本低(di)。

4、純銅(tong)柵線相比銀漿導電性更好。

圖:IBC電池銅電鍍(du)工藝


圖片

來源:《Direct contact plating - Inline plating solution for ZEBRA IBC by local contacting》


重點關注主線:

1)研發能力、技(ji)術/資金儲(chu)備、產業(ye)影響力更強的(de)頭(tou)部企(qi)業(ye):隆基綠能、通威股份、愛(ai)旭股份 等;2)BC技(ji)術方案核心(xin)設備供應商:帝爾激光 等;3)與(yu)BC技(ji)術更匹配的(de)電鍍(du)銅工(gong)藝設備供應商:芯碁微裝,羅(luo)博特科、蘇大維格 等。4)相關材料(liao)廠商:宇邦(bang)新材、廣信(xin)材料(liao)等。


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